Huawei geht Partnerschaft mit Saatchi Gallery ein

Die internationale Partnerschaft verstärkt Huawei Engagement in Sachen Fotografie und verweist bereits auf die Fotoeigenschaften des Huawei P10, das am 26. Februar eingeführt wird. [...]

Zur bestehenden Partnerschaft mit dem deutschen Kamerahersteller Leica fügt der chinesische Smartphone-Hersteller jetzt auch jene mit der 1985 gegründeten Saatchi Gallery für zeitgenössische Kunst hinzu und verweist damit schon auf die Markteinführung des neuen Huawei P10 Smartphones am 26. Februar, das die Handy-Portraitfotografie auf eine neue Ebene heben soll. 
Die Saatchi Gallery war der Startpunkt für viele der einflussreichsten Künstler unserer Zeit, wie Tracey Emin, Damien Hirst und Jeff Koons. Mit dem Fokus auf Portraits wird die Partnerschaft die Verschmelzung von Kultur und Technologie erkunden, um der  zeitgenössischen Portraitfotografie neue, kräftige Impulse zu geben.
Aus diesem Grund haben die Saatchi Gallery und Leica haben sieben bekannte Fotografen damit beauftragt, mit dem Huawei P10 eigene fotografische Interpretation der Welt um sie herum zu liefern. Die exklusiven Arbeiten werden das erste Mal bei einer Sonderausstellung auf dem Mobile World Congress gezeigt, der vom 26. Februar bis 2. März 2017 stattfinden wird, womit zum ersten Mal neue Kunst zum MWC gebracht wird.
„From Selfie to Self-Expression“
Überdies präsentieren Huawei und die Saatchi Gallery gemeinsam ab dem 31. März 2017 die Ausstellung „From Selfie to Self-Expression“ in London. Die Ausstellung erstreckt sich über die gesamte Fläche der Saatchi Gallery und ist die weltweit erste zur Geschichte des Selfies – von alten Meisterwerken bis heute.
Auch diese Ausstellung hebt die wachsende Bedeutung von Smartphones als künstlerisches Medium zur Selbstdarstellung hervor. Zehn junge, britische Fotografen kreierten hierfür Werke, umgesetzt mit der Leica Dual Camera der aktuellen Huawei Smartphones. Die Bilder werden in einem Bereich der Galerie aufgestellt, der sich hochklassiger Smartphone-Fotografie widmet. 


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